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光學薄膜的特點及測厚檢測設備介紹
由薄的分層介質構成的，通過界面傳播光束的一類光學介質材料。光學薄膜的應用始于20世紀30年代。現代，光學薄膜已廣泛用于光學和光電子技術領域，制造各種光學儀器。
光學薄膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發生躍變，但在膜層內是連續的；可以是透明介質，也可以是吸收介質；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實際應用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為：制備時，薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫散射；膜層之間的相互滲透形成擴散界面；由于膜層的生長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各向異性；膜層具有復雜的時間效應。
| 測量方法 | 非接觸式/光譜干涉儀 |
|---|---|
| 測量對象 | 電子、光學用透明平滑薄膜、多層薄膜 |
| 測量原理 | 光譜干涉儀 |
實現高測量重復性（± 0.01 μm 或更小，取決于對象和測量條件）
不易受溫度變化的影響
可以制造用于研究和檢查的離線型和制造過程中使用的在線型。
反射型允許從薄膜的一側測量
只能測量透明涂膜層（取決于測量條件）
| 測量厚度 | 1 至 50 μm（用于薄材料）、10 至 150 μm（用于厚材料） |
|---|---|
| 測量長度 | 50-5000 毫米 |
| 測量間距 | 1 毫米 ~ |
| 小顯示值 | 0.001 微米 |
| 電源電壓 | AC100 伏 50/60 赫茲 |
| 工作溫度限制 | 5～45℃（測量時溫度變化在1℃以內） |
| 濕度 | 35-80%（無冷凝） |
| 測量區域 | φ0.6毫米 |
| 測量間隙 | 約 30 毫米 |
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